多涂層CP3型硬質(zhì)合金抗彎強(qiáng)度及其分散性的研究
發(fā)布日期:2012-08-29 蘭生客服中心 瀏覽:3331
1 引言
2 試驗(yàn)與檢測(cè)
3 結(jié)果與分析
- 斷口形貌
- 在X-650型電子探針儀上觀察到涂層后硬質(zhì)合金的斷口形貌如圖1所示(圖中右側(cè)為涂層)。由圖1可見,涂層與基體之間冶金結(jié)合緊密,涂層中未見微缺陷且無(wú)明顯的柱狀晶。
圖1 涂層后硬質(zhì)合金的斷口形貌
圖2 CVD涂層的X衍射譜 - 涂層組織結(jié)構(gòu)
- 圖2為涂層的X衍射譜。通過(guò)查對(duì)JCPDS衍射卡片,可知涂層中有TiC、TiN和Al2O3相;衍射譜中還有WC和Co相(因?yàn)橥繉虞^薄,硬質(zhì)合金中的主相WC和Co也會(huì)在衍射結(jié)果中有所反映)。
- 涂層結(jié)合力
- 在WS-88型涂層結(jié)合力測(cè)定儀上通過(guò)劃痕法測(cè)定的涂層結(jié)合力為5~7kg,進(jìn)一步證明了涂層與基體結(jié)合良好。
- 抗彎強(qiáng)度
- 涂層前、后分別在日本T10A型電子拉伸試驗(yàn)機(jī)上測(cè)定材料的抗彎強(qiáng)度。該硬質(zhì)合金涂層前的抗彎強(qiáng)度分別為2351、2648、2523、2446、2257、2172、2233、2194、2179、1902、1876、1679、2074、2053、1971、2148、2118、2230、1485、2206、1885、2034、2234 和1967MPa,平均抗彎強(qiáng)度為2119MPa;涂層后該硬質(zhì)合金的抗彎強(qiáng)度分別為1509、1513、1551、1552、1564、1567、1567、1611、1624、1631、1636 和1643MPa,平均抗彎強(qiáng)度為1580MPa。由該結(jié)果可知,涂層前該材料的抗彎強(qiáng)度存在一定的分散性,涂層后硬質(zhì)合金的抗彎強(qiáng)度有所下降,但分散性變化很小。
- 日本學(xué)者研究了用CVD法在硬質(zhì)合金基體上涂覆單層TiC涂層和涂覆TiC+Al2O3雙層涂層對(duì)其抗彎強(qiáng)度的影響。研究結(jié)果表明,涂層硬質(zhì)合金的抗彎強(qiáng)度隨涂層厚度的增加而下降。
- 涂層前、后分別在日本T10A型電子拉伸試驗(yàn)機(jī)上測(cè)定材料的抗彎強(qiáng)度。該硬質(zhì)合金涂層前的抗彎強(qiáng)度分別為2351、2648、2523、2446、2257、2172、2233、2194、2179、1902、1876、1679、2074、2053、1971、2148、2118、2230、1485、2206、1885、2034、2234 和1967MPa,平均抗彎強(qiáng)度為2119MPa;涂層后該硬質(zhì)合金的抗彎強(qiáng)度分別為1509、1513、1551、1552、1564、1567、1567、1611、1624、1631、1636 和1643MPa,平均抗彎強(qiáng)度為1580MPa。由該結(jié)果可知,涂層前該材料的抗彎強(qiáng)度存在一定的分散性,涂層后硬質(zhì)合金的抗彎強(qiáng)度有所下降,但分散性變化很小。
F(s)=1-exp[-(s/s0)m] | (1) |
ln{ln[1/(1-F(s))]}=m·lns-m·lns0 | (2) |
|
4 結(jié)論
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